La Deposizione Chimica da Vapore (CVD) per la produzione di materiali solidi
La deposizione chimica da vapore (CVD) è un processo chimico ampiamente utilizzato in vari settori come il fotovoltaico, l’integrazione di dispositivi elettronici, schermature elettromagnetiche, rivestimenti protettivi e coperture biocompatibili.
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Funzionamento della Deposizione Chimica da Vapore
Durante la deposizione chimica, uno o più precursori volatili reagiscono o si decompongono al contatto con un substrato riscaldato, depositando un materiale solido su di esso. I gas sottoprodotti vengono rimossi attraverso un flusso di gas nella camera di reazione per evitare accumuli indesiderati. Esempi di Reazioni Utilizzate nella CVD
Alcuni esempi di reazioni comuni in CVD includono la produzione di SiO2 da SiH4 e O2, P2O5 da PH3 e O2, Si3N4 da SiH4 e NH3, e W da WF6 e H2. Classificazione dei Materiali Precursori in CVD
I materiali precursori in CVD sono suddivisi in varie categorie tra cui alogenuri metallici, idruri, composti metallorganici, alcossidi metallici, alchil-metallo, metallo carbonili e altri composti complessi. Applicazioni della CVD
Una delle principali applicazioni della CVD è il rivestimento di supporti con silicone policristallino ad alta purezza per le celle fotovoltaiche. Questo processo implica una serie di reazioni che portano alla deposizione di silicio sul substrato. La deposizione chimica da vapore è una tecnica versatile che trova applicazioni in diversi settori grazie alla sua capacità di produrre materiali solidi di alta qualità in modo controllato e preciso.
